开始」，翟达希望一举建立研究院自己的EDA系统，然後陪着整个产业链一起进步。
第二个关键节点：老生长谈的光刻机，由周墨、杨天天带队，这个部分参与的π成员最多。
这大概是整个产业链最贵，最有价值的设备，当然光刻机不是独立运作的，它也需要如光源系统、光刻胶等关键技术配套。（杨天天已经突破了新一代光刻胶）
当前「光刻机」其存在感还没那麽强，但十几年後，路边计程车司机都能和你唠两句。
无他，被卡的最死，被搞得最恶心的部分。
为什麽光刻机的精度制程很重要？就像之前晶圆上盖房子的比喻一样，精度越高，意味着同样大小的晶圆上，能够盖的房子越多，越复杂，虽然也有「设计好坏」、「多重/多层」的区别，但精确度是先决条件。
目前市场上先进位程的代表是28纳米，未量产的实验室技术是22纳米，而研究院将目标直接放在了14纳米，这也是DUV和EUV的理论分界线。
即：14纳米以上，DUV也能搞，14纳米以下，只能EUV。
实际上现在各家对EUV的研究都属於「预先研究」，工厂量产都是靠DUV。
研究院虽然实力强大，但毕竟谋求的是全产业链，如果不把要求放高一些..
到时候「出世即落伍」，那才是招笑了。
他要「出世即镇压」！
第三个关键节点：14纳米工艺前瞻，这是一个统合性工作，由唐晓峰带队负责。
这个工作和所有分项都相关，且同步进行，需要一边探索一边总结，全球企业都站在同一起跑线上，但只有实际创造「产量」才有成绩，光研发不生产屁用没有。
只有设备和技术、没有变成现实的生产能力，研究院最多只是个供应商。
3个关键节点，11个大项目，144个小项，只要都完成了，研究院就将掌握当前技术水平下的「半导体先进生产力」，且全产业链自主可控。
退一步，若完成了一半，只要国际局势还未出现彻底的崩坏，研究院依然可以依托外采、外包等方式，构建部分生产力，形成正反馈後再「以战养战」，以市场养研发。
要知道翟达有一件【原型机：超大腔体CVD】，可以增加半导体工业10%的良率，一直放在工厂里，工艺有些许瑕疵，照样能打。
咳咳，如果一半都完成不了..
嗯...算他翟
…。。