指的是在高振东的技术路线上的改进，他说这个的时候，已经没有当初提单晶多晶一起齐头并进想法时的忐忑，高总工不是那样的人，在他指导下做事儿，舒坦。
果然，听见他的话，高振东一脸的喜色，非常高兴：“太好了！说说看说说看。”
“您说的在多晶硅表面做织构体的时候，可以用照相平板印刷、激光雕刻的技术，我们发现有一些可以改进的地方。”
多晶硅是多晶，表面有多个晶向，没法用单晶硅常用的NaOH溶液制绒，要复杂得多，所以在制绒这一块上，多晶硅是他们研究的重点，单晶硅反而直接照抄高振东给的技术就完事儿了。
多晶硅他们也抄，只是在抄的过程中，有了新的发现。
唐少辉拿出一份资料，非常高兴的向高振东汇报。
“您看看，这是我们在研究过程中的统计，照相平板印刷的成本很高，积累起来不得了。我们也想解决这个问题，在反复研究试验，在试验过程中，我们无意中把用于硅片蚀刻的氢氟酸、含银离子的某些种类胶片定影液废液掺到一块了，还泼到了多晶硅片上，等到发现，已经过去很长一段时间。”
至于激光雕刻，那更不是唐少辉能考虑的，直接被他跳过去了。
他提到的这几样东西，都是他们做这些试验常用的。说到试验小组失误的时候，唐少辉非但没有沮丧，甚至还眼里发光，高振东就知道，估计“一次失误趟出一条新路”这种科研中喜闻乐见的经典桥段发生了。
不出他所料，唐少辉接下来的话证实了他的猜想：“本着你说的什么路子都要试一试看一看的想法，反正都泼上去了，我们在显微镜下观察了这些硅片的表面，发现一个非常让人惊喜的现象，在这硅片被蚀刻出了一个一个的小孔，非常小的那种，虽然分布和总体质量、均匀性什么的达不到要求，但是尺度大概和工艺需要的尺度量级范围差不多。”
嗯？氢氟酸本来就是蚀刻硅片的，理论上除了多晶晶界不均匀造成的不均匀蚀刻，其他地方应该反应速度是基本一致的，为什么含银离子的硅片会出现一个个尺度极小的小孔？
高振东非常敏锐的意识到了唐少辉所说的现象，正好，最近他在研究最多的，就是有机物的合成，虽然是有机化学，唐少辉说的这事儿是无机化学，但是其中有些东西，却是相通的。
高振东那个被强化过的脑子那多好使啊，马上就结合自己最近的工作，都会抢答了：“是一个个尺度极小的小孔？催化反应
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