他，觉得这是今天听到的第一个好消息，也是最好的消息，高总工有才啊。
“高总工，你是说这个技术，只要这么几次光刻，几十步工序，就能完成双极型半导体要一百多步工序才能完成完成的事情？”
高振东笑道：“技术的发展其实本来就是这样的，先进不等于复杂，有的先进技术可以简单到我们难以想象。”
甚至看起来还超级土鳖，高振东心想。
对于高振东，他们两人还是很相信的，这位说的话，基本上还从来没有落空过。
“高总工，这太好了，我们需要做什么？”
高振东道：“我看现在厂里的情况，是有扩散炉的对吧？”
吕厂长点点头：“是的，这是我们基础生产设备之一，很多。”
“那最高的温控精度有多高？到得了正负1摄氏度不？”高振东问道，这个精度涉及到扩散掺杂效果。
这个鲁总工清楚：“这个到不了，有点差距，主要是传感器问题。”
现在他们用的K型热电偶，测温范围没有问题，但是精度就差不少了，2.5摄氏度或者千分之7.5，对于这个精度要求差了老远。
高振东想了想，没有推荐B型热电偶，B型的千分之2.5的误差也差点意思，而且反应速度慢。
“加一个铂电阻吧，间接测量，作为辅助传感器，配合K型热电偶，加上DJS-60D跑PID控制算法，应该是能控制得住的。”
铂电阻反应速度也慢，不过这个可以算法手段加以某种程度上的解决，铂电阻精度就远超需求了，最好的可以到千分之三摄氏度。
铂电阻最大的问题还是测温范围问题，半导体生产中需要用到1000摄氏度以上的范围，是超过铂电阻的测温范围的，不过间接测量设计得好的话，问题不大。
所以高振东拿出了铂电阻间接测量+K型热电偶直接测量的办法，一个测得准，一个测得快，双剑合璧，天下无敌。
他不知道日后的扩散炉是怎么解决这个问题的，反正在他这里，他就这么解决。
之所以这个扩散炉这么重要，主要是很多工序都靠这个。
氧化、淀积、扩散、扩散-氧化，这些都靠这玩意了。
扩散-氧化本来还有一种工艺的，但是高振东没有选，因为选择那种工艺会多出来一种叫做外延反应系统的设备，那就麻烦了。
所以高振东选择的还是能靠扩散炉完成“热氧化法
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