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第367章 MOS

作品:四合院:我边做科研边吃瓜作者:打小就清澈
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连五十步笑百步都算不上。

要说在集成电路设计阶段成本低,在这個阶段就是个伪命题,人力成本在这时候不怎么算的。

MOS还有一个毛病是某个芯片一旦定型后,修改困难,修改成本很高。

但对于高振东要做的事情来说,这个根本就不是问题。

作为大规模使用的芯片,不论是逻辑门集成电路还是CPU、DRAM,都是定型了就不会随便修改,会大量量产的东西,所以这一点在这方面根本就不是问题。

最重要的一点是,高振东清楚的知道,打从CPU和半导体存储器一开始,就没有双极型什么事儿,双极型做集成逻辑门电路是不错,但是用来做CPU和半导体存储器,根本用不上。

或者说,在这方面,从技术和经济角度出发,人们都从来没有青睐过双极型半导体。

Intel 4004,10μm的PMOS。

8008,10μm的PMOS。

首个4Kbit的DRAM,8μm的NMOS。

首个16Kbit的DRAM,5μm的NMOS。

大名鼎鼎的8086/8088,3μm的NMOS。

彻底巩固了Intel数十年基业的80286,1.5μm的CMOS。

至于为什么大家都不约而同的在这个应用方向上选择了MOS技术,那就不得不说MOS的优点了。

这玩意工艺简单!比双极型简单得多,不是一星半点那种!

抛开复杂的技术原理等等不说,简单总结,以PMOS和双扩散外延双极型为例,要达到差不多同样的效果,两者工艺差别非常巨大。

PMOS外延次数1次,工艺步数最多45步,高温工艺2步,光刻最多5次。

而双扩散外延双极型的这些数字,分别是4次以上、130步、10步、8次。

工序更少、工艺更简单、良品率更高

对于量产来说,这些特么可都是钱呐!

而且对于现在的高振东来说,工艺步数越少,就意味着成功率越高。

两者用到的基础技术实际上是差不多的,最大的区别是在晶体管的工作原理上,所以在这个阶段的技术难度上,有了高振东当知识的搬运工,更晚、更先进的MOS甚至要比双极型要低。

MOS技术还有一个非常逆天、非常反直觉的地方。

在同代次内,更改MOS电路

…。。
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