刻机，而目前随着十纳米工艺逐步过渡，后续我们将会让该厂专注于十二纳米工艺的制造！”
最后丁成军指着前方的全新工厂道：“而正前方的，就是我们的第二十八厂，也是我们公司技术最先进的芯片制造工厂，采用了全球首款商业量产的HEUV-300B光刻机，能够用于等效七纳米工艺以及未来五纳米工艺的芯片的生产……即EUV光刻机单次曝光工艺！”
“该厂是我们预定的未来主力工厂，设计的产能是比较大的，预备一共建设三条产线，目前第一产线已经投入量产，用于生产七纳米工艺，月产能达到每月三万片！”
“等到今年秋天，第二产线也会量产，到时候将会再增加两万片的产能！”
“等到明年二月份左右，我们的第三产线也会建成投产，预计再增加一万片的产能！”
“三大产线一起，整个工厂的综合月产能能够达到六万片！”
“同时我们还在规划第四产线，准备把整个工厂的产能提升到每月八万片！”
“这样，再加上正规规划，建设当中的通城基地第三十厂的预期每月七万片产能，我们就能够达到每月十五万片的七纳米/五纳米产能！”
“而这还不包括第二十五厂里采用第一代七纳米工艺的产能，第二十五厂因为采用DUV浸润式光刻机生产等效七纳米工艺，其制造成本太高，良率也低，后续等EUV光刻机的七纳米产能，同时外部代工市场如果订单需求不足的话，我们可能会将会逐步把第二十五厂的产能转移为十二纳米工艺！”
第二十五厂的七纳米工艺产能，是属于特殊时代下的特殊产物……是智云集团和水果/高通/台积电联盟之间争夺全球首发七纳米工艺的特殊产物。
双方都不惜代价，耗费大量资金，也不惜昂贵的制造成本，强行使用NXT1980光刻机或HDUV-600B光刻机，采用四重曝光工艺制造等效七纳米工艺的芯片！
但是这种工艺可以想象的，同样的芯片，其最核心层晶体管的制造，人家HEUV-300B这种EUV光刻机曝光一次就完事了，但是用HDUV-600B浸润式光刻机的话，得曝光四次……足足四次啊！
用脚指头想都知道，这良率肯定好不到哪里去，生产效率也会非常低！
如今HEUV-300B光刻机已经出现了，智云集团都开始大规模采用EUV光刻机生产第二代七纳米工艺芯片了，那么使用DUV浸润式光刻机生产七纳米工艺芯
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