多年时间整合了国内现有资源后，加上庞大的资金以及科研人员投入，以及更为核心的科研系统的大力投入，最终做出来了DUV浸润式光刻机HUDV-400型光刻机，套刻精度为五点五纳米，采用单次曝光技术就已经满足28-45纳米节点的芯片生产。
这款光刻机的早期型号尽管生产效率不太行，导致芯片的生产成本会比较高，但是其意义是非常重大的。
该款光刻机的出现直接导致了老美的那几家财团打消了在DUV浸润式光刻机领域里封锁智云集团的念头……徐申学都已经做出来了同类的光刻机了，继续封锁已经没有了太大意义。
后续，仙女山控股旗下的海湾科技又做出来了深度改进型号HDUV-500型光刻机，不仅仅生产效率大幅度提升，达到了ASML同类产品的水准，更具备了三点五纳米的套刻精度，这意味着该款光刻机可以使用双重曝光技术，用来生产等效12-18纳米工艺节点的芯片。
上述的HDUV-400以及HDUV-500虽然做的都挺不错的，但是部分技术细节上还是略有不如国外的ASML同级别产品的，毕竟研发时间仓促，能够搞出来就不错，一些小问题后头可以慢慢解决。
这也是当时虽然智云微电子采购了这两款光刻机，但是依旧采购了不少ASML的NXT1950以及1970光刻机的缘故，当时采用的还是两条腿走路的方式。
但是等到HDUV-600时代又不一样了，这款光刻机可以说汇集了仙女山控股，不，甚至是整个华夏工业体系的所有顶级科技。
并且在徐申学的大量资源投入下，大量科研人员的日夜奋斗之下，这款光刻机的技术进行了非常快速的迭代，从一开始的勉强可用的基本状态，再到改进型A型号，再到完善型号B型号。
等到HDUV-600B型的时候，其基本性能已经完全不弱于ASML的同级别NXT1980光刻机，也就是无故障时间短了点，后期维护稍微麻烦一些。
但是在生产效率，制造精度上已经属于同一层次了。
HDUV-600型光刻机，可以说是海湾科技在DUV浸润式光刻机里的集大成者，技术非常完善，采用双次曝光可以应用于等效10-14纳米工艺，采用四重曝光技术的话，则是可以用于等效七纳米工艺。
该款HDUV-600光刻机目前是海湾科技的浸润式光刻机出货主力型号，哪怕单价达到八千多万美元累积订单已经超过了五十台
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