需要通过四重曝光技术来研发等效7纳米工艺的芯片了……而这一技术的制造成本更高。
所以从芯片的制造成本来看，尤其是使用DUV浸润式光刻机的情况下，采用双重曝光技术，生产14纳米工艺的芯片才是最划算的，这也包括智云12纳米工艺，毕竟智云的十二纳米工艺其实就是他们自己的第二代十四纳米工艺。
使用十纳米工艺的话，虽然芯片性能提升了一些，但是成本提升了很多，如果不是S系列手机这种奔着极限去，各种追求领先的产品，其实都没必要采用智云等效十纳米工艺的芯片。
这也是智云半导体的一大堆各种芯片设计里，基本都是围绕着十四纳米工艺以及十二纳米工艺展开的缘故。
至于十纳米工艺的芯片，目前就只有两种，一种是S系列手机使用的S806芯片，另外一种则是用于各种车辆以及无人机平台的算力芯片EYQ4。
其他的，包括AI训练芯片，暂时都不会采用这个十纳米工艺……划不来。
目前乃至未来两年内，智云集团这边新生产或设计的AI训练芯片，包括自用的AI系列，都会采用第二代十四纳米工艺，也就是智云宣传的十二纳米工艺制造。
其他各类芯片，电脑CPU，服务器CPU，各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。
同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。
至于十八纳米工艺的一些产品，则是已经陆续停产，该工艺也是属于过度工艺，性价比太低了。
未来好几年内，智云集团的各类芯片，不管自用还是外销，都会采用十四纳米工艺为主，当然，这个十四纳米工艺可能会有很多种，包括第一代十四纳米工艺，第二代十四纳米工艺（十二纳米），然后还有其他的一些变种工艺，以满足不同类型的芯片的需求。
至于更先进，但是性价比太低的十纳米工艺，注定只是个过渡工艺。
智云集团的一些先进芯片，如AI训练芯片，手机SOC芯片，机载算力卡这些对工艺要求高，对算力要求高的芯片，则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高，但是带来的性能提升也足够大，所以咬咬牙也能用。
这就是没有EUV光刻机的尴尬了。
如果有EUV光刻机的话，等效七纳米芯片的成本就能拉下来，同样的，等效十纳米工艺其实用EUV光刻机来生产也更方便，成本更低。
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