的工厂了。
但实际上，该厂目前是徒有其表……因为设备还没有到齐全呢。
“第一产线采用的ASML的NXT1980光刻机，目前只到货了四台，剩下的估计要年底才能够全部交货完毕！”
“第二产线采用的是海湾科技的HDUV-600光刻机，目前该光刻机已经到货一台，正在进行各种试验，预计下个月开始向我们大量供货，今年年底之前就能够全部到货完毕。”
“也就是说，我们的两条产线的光刻机在年底之前就能全部到货，然后展开设备的调试，针对等效七纳米工艺的量产，提升良率进行各种测试和研发。”
“乐观估计能够在明年第四季度就能够完成基本的研发工作，然后开始备产，预计后年第一季度为集团开始供货，并进行产能爬升。”
“整体进度上来说，还是比较快的！”
“而目前，我们也已经利用已经到货的光刻机进行技术验证，预计年底就能够完成技术验证！”
工艺节点的技术验证，只是单纯验证技术路线的可行性，证明能够生产该工艺节点的芯片，然而完成了技术验证后，后头其实还有一大堆的问题，比如提升良率就是个非常巨大的问题，往往需要比较长的时间来进行逐步的改进。
智云微电子，实际上在今年第一季度就已经完成了十纳米工艺的技术验证，但是到目前为止依旧不具备量产的能力……良率太低，成本太高，不具备量产的条件。
工艺节点的推进是非常复杂的，除了硬件设施，也就是光刻机以及其他各类核心设备的参数要达标外，还需要各类耗材的技术参数也代表，比如光刻胶，特殊气体等等。
然后各类工序也需要设计，达到最理想的情况，提升产能，提升良率。
而这些并不是说有了光刻机就能搞的，还得需要大量的技术工作。
尤其是等效七纳米工艺这种，直接奔着现有光刻机的极限能力去的工艺，搞起来难度非常大的。
毕竟HDUV-600光刻机或者是ASML的NXT1980光刻机，它们只是理论上具备通过四重曝光的方式，来达到等效七纳米工艺的水准。
但是如何达到这个理论设计的极限，还需要晶圆厂付出巨大的努力。
搞工艺，也不是那么简单的事。
要不然的话，ASML的光刻机到处卖，也不会只有台积电和智云微电子直接上马等效七纳米工艺了……技术难度太大，制造出来的
…。。