的科研名额，基本都是给仙女山控股体系这边用了。
智云集团那边除了智云微电子外，其他项目组，子公司都已经好久没有得到过A级以上的科研名额新增了，都是用原来的一些科研名额顶着，不过原来分配过去的高级别科研名额也不少，所以也够用了。
看完了诸多这些现成的核心设备，徐申学又了解了一番EUV光刻机的研发进度。
王道林介绍道：“目前我们正在汇同各大子系统供应链企业，对EUV的多种关键技术进行集中攻关！”
“主要是EUV光源系统，高精度的弧形离轴反射镜构成的光学系统，还有超高精度的真空双工件台。”
“除了光刻机本身的技术外，我们也在配合仙女山控股体系下的其他兄弟公司，研发EUV掩膜版，沉积工艺等等。”
“而我们负责主导的EUV光刻机研发上，目前光源系统的进度是比较快速的，我们之前获取了完整了EUV所使用极紫外光光源的技术资料，而经过我们数年的反复尝试和试验，已经算是制造出来了极紫外光的光源！”
“但是距离实用性还有一定的差距，我们的激光部分问题不大，但是在激光轰击锡滴的频率还是不够，无法达到技术资料上所需要的每秒五万次。”
“我们已经针对这个技术难题牵头，进行了技术攻关，目前进展还算顺利，也许明年年中我们应该就能够把这个光源给搞出来！”
“还有则是光源的反射镜，因为极紫外光的特殊性，很多材料无法反射这种光线，而是会被吸收，因此我们还需要一种全新材料所制造的反射镜来反射这种极紫外光！”
“这部分工作主要由南方光学所承担，据我所知，他们已经尝试研发出来一种镜面材料，效果很不错，如今的难题是卡在了及镜面加工上，EUV光刻机所需要的镜面精度，超过了DUV光刻机镜面精度一个量级，他们正在和国内的几家科研所进行合作，准备搞这个镜面加工。”
“双工台的话，这个难度倒是稍微低一些，我们如今的双工台技术还是很不错的，哪怕直接套用也勉强可行，只是会浪费EUV的13.5纳米的光源所带来的精度而已。”
“我们也正在开发精度更高，效率更高的双工台，为EUV光刻机进行配套！”
“整体下来，我们的EUV光刻机目前所遇到的技术难题还是比较多，光源系统和双工台系统都还算好，我们还是有把握的，不过这反射镜就不太好搞了。”
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