。”
“其中我们的i-line光刻机已经推进到第二代，相对比第一代大幅度提升了产能，提升了效率，降低了芯片的制造成本，该光刻机用于成熟的350-500纳米的芯片生产，具有成本低，效率高的特性，目前广泛供应国内各厂商以及部分海外厂商，这款光刻机和我们的KRF光刻机，目前是没有专利障碍的，所以也面向国外客户供应，利用我们的低成本优势也获得了一定的海外市场，不过整体技术上还是对比国外的产品有差距，因此销量一般。”
“KRF光刻机，同样也进行了改进，推出了升级型号，提升了效率，这款光刻机用于成熟的130-250纳米工艺，该款光刻机我们的智云微电子里以及其他国内厂商大量采用，使用反馈很不错，乃是我们的诸多光刻机产品里，客户反馈最好的一款，成本低，容易维护，生产效率好，所以这一款光刻机我们的出货量还是比较大的，每年出货超过四十台！”
“DUV干式光刻机，我们的初代型号是HDUV-100，后续我们又推出了改进型号HDUV-200以及300，最新的HDUV-300型号，今年刚实现量产并供货，进一步提升了套刻精度，为客户提供更加良好的65工艺节点的生产，整体效率也进一步提升，降低芯片生产成本。”
“这系列光刻机，出货量也比较大，预计今年我们能够出货大概五十台以上，主要供给智云微电子，中芯等厂商以及其他几家国内厂商，主要用于55-90纳米工艺节点。”
“DUV浸润式光刻机，是目前我们的核心产品，技术先进，售价也相对高昂，该系列光刻机也是目前我们公司的主要营收来源！”
前面几代的光刻机虽然也还有市场，不过这些老旧光刻机已经卖不出什么价了……毕竟落后芯片都卖不什么价格了，制造出这些落后芯片的落后光刻机，同样也卖不出什么价来。
当然，虽然价格低一些，但是依旧还有市场，并且市场还不小。
因为成熟光刻机，它除了可以直接生产成熟工艺的芯片外，也可以作为先进工艺芯片的辅助设备使用。
小知识，芯片的生产过程里，往往需要经过很多次的光刻机曝光，而其中的大部分曝光工序对光刻机的要求不会太高，因此可以由成熟落后的光刻机进行操作，以节省制造成本。
只有在核心曝光工序的时候，才会使用最先进的HDUV-500型或类似ASMLDUV浸润式光刻机。
后续如果采用了
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