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丁成军和王道林，陪着徐申学说话聊天的时候，前方的400型光刻机生产测试也有了结果。
技术人员很快把相应的测试结果拿过来，并且还是附带了和ASML光刻机的一些技术参数度对比。
徐申学看了看，感觉很不错，虽然各方面还是落后于ASML的先进型号的光刻机，但是整体上已经达到了堪用的水准。
至少用来生产二十八纳米工艺的芯片是没有问题的，只是现阶段这台测试样机的生产成本相对比较高一些，直接用于商业生产就有些不太划算。
不过这只是一台测试样机而已，后头海湾科技会根据诸多实际试产的测试结果，然后进行一些技术改进和调整，等到明年真正生产量产版的时候，是能够满足二十八纳米工艺的商业生产的。
而海湾科技正在搞的500型光刻机，还有着更好的双重曝光技术，套刻精度会进一步提升，到时候也能用于十四纳米乃至十纳米工艺的。
甚至极端一点也可以强行搞七纳米工艺的芯片。
无非就是成本问题而已。
光刻机问题，到现在来说，已经算是勉强解决了，虽然还不太好用，但总归是有了。
自家有这东西，在外头和人打架或者谈判的时候，也就有了更大的底气……过去一年里，徐申学动不动就被威胁断供光刻机等半导体核心芯片。
虽然还没真断供，但是也把徐申学给恶心了个够呛。
如今自己有了DUV浸润式光刻机，以后谁要是敢说用光刻机卡他脖子，他就让对方直接滚蛋。
徐申学这边视察了第一台DUV浸润式光刻机进行试产测试，不用多久，也有其他人听闻消息然后也陆续跑过来进行视察。
不少人都挺好奇的，想要看看这国之重器到底长啥样！
而没有多久，七点半晚间新闻里，也正式报道了拥有全面自主知识产权的第一代国产DUV浸润式光刻机的消息，顿时引起不小的波澜。