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第一百六十章 第一台光刻机

作品:重生08:从山寨机开始崛起作者:雨天下雨
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半导体产业链的投入将会是非常庞大的,虽然徐申学不考虑,也不可能所有事情都自己做,但是光是牵个头,做一做光刻机,蚀刻机,离子注入机这些半导体整合设备的花费就不是个小数目。

至于真正的大后期,那可能就是涉及到整个工业底层体系的庞大命题……徐申学肯定是要让智云科技这个主要经营实体,然后再拉上一大堆国内相关企业、机构一起做的。

毕竟这种事就不是一个人,乃至一个企业能够单独搞定的。

而现阶段徐申学要做的是?智云科技要做的是什么?

说起来其实也很简单,徐申学想要先开个头,打个样……比如说先利用国内比较成熟的技术基础,把DUV干式光刻机给弄出来。

这个过程里利用智云科技的庞大的资金以及产业链事业,先把这个DUV干式光刻机进行产业化,继而带动半导体制造设备以及原料的一系列产业链。

简单来说就是把光刻机领域先产业化,产生实际的经济效益,进而带动一整个产业链的持续进步。

整个模式,其实和做智能手机,然后带动整个智能手机产业链,本质上其实差不多……

————

当下的DUV干式光刻机还是很有市场的,因为这种光刻机主要用于65-130纳米的超大规模集成电路或者说芯片制造,而当下一大堆二流手机的芯片都还在采用六十五纳米工艺呢,比如S9手机采用的MSM8X50芯片,其实就是六十五纳米工艺……

8X50芯片的性能在当下,依旧是足以进入前五。

而六十五纳米的支撑,是可以使用DUV干式光刻机制造的

再往下的各种内存以及其他类型的芯片,也是使用六十五纳米到一百三十纳米之间的工艺制造的。

这种级别的制程工艺,别说在当下了,就算是到了十几年后,依旧有相当大一部分市场。

这意味着DUV干式光刻机在十几年后依旧有市场……海湾科技搞DUV干式光刻机,市场前景还是有不小的。

海湾科技也不仅仅有比较先进的DUV干式光刻机项目,其实也有看似更落后,用248纳米波长光源,最低制程可以做到一百三十纳米工艺的KRF光刻机。

甚至连波长365纳米,最低制程只有三百五十纳米的i-line'光刻机项目都有。

因为哪怕到了二十年代中期了,更低技术KRF光刻机,甚至i-line光刻机依旧有着广

…。。
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