时间在以小时为单位疯狂流逝！各种配比合成出的新型光刻胶样品堆满了旁边一个低温恒温室的特制样品柜台！
初步筛选、物理成像验证……失败！失败！失败！如同雪片般落下的实验报告上，盖满了刺眼的红色“×”！
绝望的乌云，似乎又开始在心头无声地聚集凝结！
苏定平成了整个实验室的灵魂中枢。
他像一头不知疲倦的铁人，在“蚀影”指挥部内部的几个核心实验室之间高速穿梭！
他不再是单纯地下命令，而是亲自冲到了实验台前！
合成反应釜旁，他紧盯着粘稠液体在激光散射仪下的特殊絮凝状态，眼神似乎进入了某种奇特的空灵状态，仿佛在与空间中流转的数据共振；
化学图谱分析室，他看着一组组复杂的质谱、核磁、红外图谱，手指如同弹奏钢琴般在虚空中点动，脑海里是图鉴传递的理论模型在飞速推演；
在物理显影模拟器前，他看着一束束激光轰下后胶体边缘那微乎其微的溶解崩溃迹象，眼前瞬间闪过图鉴中关于纳米级疏水涂层与高分子界面能量匹配优化的解决方案……
外界每一个挫败，对他而言都像是敲开图鉴壁垒的一块碎片！进度条上的时间刻度疯狂闪烁跳动！剩余解锁时间——十二天！八天！五天！
两天！
终于！
在一次令人筋疲力尽的九十二小时马拉松式连续实验后！
当苏定平双眼布满更深的红血丝、浑身都被化学试剂的味道浸透，死死地盯着最后一块经过浸没式193nm激光精密刻画的特殊配方涂层硅片从显影槽中缓缓升起……
奇迹！发生了！
那块硅片在超高温清水冲洗后展现出的图案清晰度、边缘陡直度、抗蚀刻穿透能力……远远超过了所有人对ArF光刻的认知极限！其分辨率竟然逼近了他们之前想都不敢想的——7nm层级！
这完全达到了EUV技术节点才能勉强抗衡的制程精度！
实验室里一片死寂！所有人都被那显微镜下呈现出的超精细、近乎完美的纳米级线条阵列惊呆了！
“成了！成了！！！”
一个年轻的技术员终于发出了如同梦呓般的喃喃自语，猛地扑过来抢过显微镜目镜仔细看了几秒钟，突然“嗷”一嗓子，发出了如同饿狼般疯狂的嘶吼！
“真成了！苏总师！袁教授！快看！
这线条！
这分辨率！不
…。。